特種氣體分類：高純氣體通常指利用現(xiàn)代提純技術(shù)能達到的某個等級純 度的氣體，對于不同類別的氣體，純度指標不同，大多用于超大規(guī)模集成電路及分離器 件、光電子等高科技領(lǐng)域；特種氣體在太陽能電池中的應(yīng)用：晶體硅電池片生產(chǎn)中的擴散工藝用 到 POCl3 和 O2，減反射層 PECVD 工藝用到 SiH4、NH3，刻蝕工藝用到 CF4；20 世紀 80 年代，電子產(chǎn) 業(yè)的興起推動特種氣體的需求提高，隨著氣體供應(yīng)商供氣模式的引入，國內(nèi) 企業(yè)原有的氣體車間、氣體廠和供氣站等紛紛發(fā)展為獨立的氣體公司，國內(nèi)特種氣體市 場逐步發(fā)展起來。
特種氣體在集成電路領(lǐng)域的應(yīng)用：特種氣體是半導(dǎo)體材料制造過程不可缺少的基硅性支撐材料，處于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的 上游，被稱為半導(dǎo)體的“源”，主要應(yīng)用于薄膜、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴散等工藝。特種氣體分類：標準氣體嚴格意義上應(yīng)稱為標準校正氣體，是一種高度均勻， 穩(wěn)定性良好和量值準確的氣體，可分為單元標準氣體和多元標準氣體，目前標準氣基本 滿足了我國石油、化工、環(huán)保、傳感器校核等諸多領(lǐng)域的需求，特種氣體在太陽能電池中的應(yīng)用：非晶硅太陽能 電池在 LPCVD 沉積 TCO 工序用到 DEZn、B2H6；非晶/微晶硅沉積工序用到 SiH4、PH3/H2、 TMB/H2、CH4、NF3 等。
特種氣體指半導(dǎo)體生產(chǎn)環(huán)節(jié)中，比如延伸、離子注進、摻和、洗滌、 遮掩膜形成過程中使用到一些化學(xué)氣體，也就是氣體類別中的電子氣體，特種氣體分類：電子氣體是指用于半 導(dǎo)體及其它電子產(chǎn)品生產(chǎn)的氣體，目前，我國電子氣體品種基本齊全，但數(shù)量和質(zhì)量與 發(fā)達國家相比，尚有較大差距；特種氣體在太陽能電池中的應(yīng)用：晶體硅電池片生產(chǎn)中的擴散工藝用 到 POCl3 和 O2，減反射層 PECVD 工藝用到 SiH4、NH3，刻蝕工藝用到 CF4；
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